상하이 AI 연구소, 반도체 제조용 포토레지스트 기술 개발 성공

최근 상하이 AI 연구소는 여러 연구 기관과 협력하여 ‘슈쉔(Shu Shen)’ 과학 대형 모델과 자동화 R&D 플랫폼을 활용해 고성능 KrF 포토레지스트 수지의 안정적 제조라는 난제를 성공적으로 해결했다. 이번 돌파구는 중국의 핵심 반도체 소재 분야에서 이룬 중대한 진전으로, 관련 제품의 주요 산업 성과 지표는 이미 목표치를 달성한 상태다.
포토레지스트 수지의 개발은 오랫동안 수작업 실험에 의존해 왔으며, 연구원들은 수천 가지의 배합과 반응 조건을 반복적으로 테스트해야 했습니다. 이러한 전통적인 R&D 방식은 비효율적일 뿐만 아니라 작업 오류에 취약하여, 대량 칩 생산에 필요한 높은 안정성을 보장하기 어렵습니다.
AI 기반 폐쇄형 R&D
연구팀은 "AI 의사결정 + 자동 합성" 폐쇄형 시스템을 구축함으로써 실험 설계부터 자동화된 후처리까지 엔드투엔드(end-to-end) 운영을 실현했다. 이 플랫폼은 정밀 제어 기술을 활용해 완제품 수지의 금속 불순물 수준을 극히 낮은 임계치로 일관되게 유지함으로써, 소재 순도와 배치 간 일관성을 획기적으로 향상시켰다.
AI 모델의 자체 진화 능력을 활용하여, 연구팀은 "경험 중심"에서 "데이터 중심"의 R&D 패러다임으로 성공적으로 전환했습니다. 핵심 실험 데이터가 대규모 모델로 자동 피드백되어 후속 실험 주기를 위한 알고리즘의 지속적인 최적화를 주도함으로써, 고성능 소재의 개발 기간을 획기적으로 단축했습니다.
해외 공급망 의존도 감소
이러한 기술적 진보는 소수의 해외 공급업체가 보유한 독점적인 "블랙박스" 솔루션에 의존하지 않고도 고성능 포토레지스트 수지를 생산할 수 있게 하여, 글로벌 칩 소재 혁신을 위한 표준화된 개발 경로를 제공합니다. 관련 성과는 현재 고객 검증 단계에 있으며, 중국 반도체 산업 체인의 자립성을 강화하기 위한 견고한 기반을 마련하고 있습니다.
이번 연구는 기초 과학 발견 분야에서 인공지능이 지닌 막대한 잠재력을 입증하며, AI 기반 워크플로가 재료 과학을 근본적으로 재편할 것임을 시사합니다. 향후 이 고도로 모듈화된 지능형 합성 플랫폼은 더 많은 핵심 반도체 소재 분야에서 기술적 돌파구를 마련할 것으로 기대됩니다.
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