HeimDas Shanghai AI Lab knackt den Code für Fotolacke in der Chipfertigung
Vor kurzem ist es dem Shanghai AI Lab in Zusammenarbeit mit mehreren Forschungseinrichtungen gelungen, die Herausforderung der stabilen Herstellung von hochwertigem KrF-Fotolackharz zu meistern, indem es das wissenschaftliche Großmodell „Shu Shen“ und eine automatisierte F&E-Plattform nutzte. Dieser Durchbruch stellt einen bedeutenden Fortschritt im chinesischen Sektor für Kernchip-Materialien dar, wobei wichtige industrielle Leistungskennzahlen für die entsprechenden Produkte bereits die Zielvorgaben erfüllen.
Die Entwicklung von Fotolackharzen war lange Zeit von manuellen Experimenten abhängig, bei denen Forscher Tausende von Formulierungen und Reaktionsbedingungen iterativ testen mussten. Dieser traditionelle F&E-Ansatz ist nicht nur ineffizient, sondern auch anfällig für Bedienungsfehler, was es schwierig macht, die für die Massenproduktion von Chips erforderliche hohe Stabilität zu gewährleisten.
KI-gestützte Forschung und Entwicklung im geschlossenen Regelkreis
Durch die Einrichtung eines geschlossenen Kreislaufsystems aus „KI-basierter Entscheidungsfindung + automatisierter Synthese“ gelang es dem Forschungsteam, einen durchgängigen Prozess vom Versuchsdesign bis zur automatisierten Nachbearbeitung zu realisieren. Die Plattform nutzt Präzisionssteuerungstechnologie, um den Gehalt an Metallverunreinigungen im fertigen Harz konstant auf einem extrem niedrigen Schwellenwert zu halten, was die Materialreinheit und die Chargenkonsistenz erheblich verbessert.
Unter Nutzung der Selbstoptimierungsfähigkeit von KI-Modellen gelang dem Team der Übergang von einem „erfahrungsgesteuerten“ zu einem „datengesteuerten“ F&E-Paradigma. Wichtige experimentelle Daten werden automatisch in das große Modell zurückgeführt, was eine kontinuierliche Algorithmusoptimierung für nachfolgende Versuchszyklen vorantreibt und dadurch die Entwicklungszeit für High-End-Materialien drastisch verkürzt.
Verringerung der Abhängigkeit von ausländischen Lieferketten
Dieser technologische Fortschritt ermöglicht die Herstellung von High-End-Fotolackharz, ohne auf die proprietären „Black-Box“-Lösungen einer begrenzten Anzahl ausländischer Lieferanten angewiesen zu sein, und bietet einen standardisierten Entwicklungsweg für globale Innovationen bei Chipmaterialien. Die entsprechenden Ergebnisse befinden sich derzeit in der Kundenvalidierungsphase und legen eine solide Grundlage für die Stärkung der Unabhängigkeit der chinesischen Halbleiterindustriekette.
Diese Forschung demonstriert das erhebliche Potenzial künstlicher Intelligenz für grundlegende wissenschaftliche Entdeckungen und deutet darauf hin, dass KI-native Arbeitsabläufe die Materialwissenschaft tiefgreifend umgestalten werden. In Zukunft wird diese hochmodulare intelligente Syntheseplattform voraussichtlich technologische Durchbrüche bei weiteren zentralen Halbleitermaterialien vorantreiben.
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