ASML 執行長在競爭中對市場地位充滿信心

每當您與人工智慧互動時，您其實都在某種程度上——雖微小卻至關重要——依賴著一家成立 42 年、擁有 44,000 名員工的荷蘭公司；這家公司每年投入 45 億歐元，致力於推動其技術向前發展。

總部位於荷蘭的 ASML，生產著驅動人工智慧的晶片製造設備。更精確地說，該公司製造的是全球唯一能將微觀圖案印製在矽晶圓上的設備，這些晶圓正是構成最先進半導體的基礎——此製程被稱為極紫外光刻（EUV）。 這些設備的體積約等同於一輛校車，組裝需耗時數月，涉及數百家供應商，且每台造價介於2億至4億美元以上，視型號而定——如此高昂的價格，甚至讓ASML的最大客戶有時也難以下定決心。

這項壟斷地位使 ASML 成為歐洲市值最高的公司，市值超過 5,300 億美元。隨著美國四大科技巨頭——微軟、Meta、亞馬遜和谷歌——僅在今年就承諾投入超過 6,000 億美元用於人工智慧基礎設施建設，對 ASML 設備的需求已飆升。該公司曾公開表示，未來數年全球晶片供應將持續供不應求。

這股強勁需求也讓ASML成為眾矢之的。由彼得·蒂爾門生創立的舊金山新創公司Substrate，憑藉其宣稱能製造出競爭性光刻機的說法，已募得逾1億美元資金，估值更突破10億美元。此外，有報導指出，中國境內的前ASML工程師已部分逆向工程出該技術，此發展具有深遠的地緣政治影響。

克里斯托夫·富凱（Christophe Fouquet）在ASML任職逾十年後，於2024年接任執行長一職。週二上午，他在出席米爾肯研究所全球會議（Milken Institute Global Conference）之前，於比佛利山莊下榻飯店的天台露台與本刊編輯會面。身著藍色西裝與白襯衫的他顯得相當放鬆——即使談話轉向潛在競爭對手時亦是如此。

本訪談為求篇幅與清晰度，已稍作編輯。

TC：您預見了這波人工智慧熱潮嗎？

CF：沒有，完全沒有。我們雖然勤勉工作，但並未預見這股具體浪潮的來臨。這場變革從一個理論概念——人們預期終將實現的事物——演變為 ChatGPT，後者成為首個有力展現 AI 潛力的實例。如今，我們視 AI 為下一場重大革命，將同時影響產業與社會。 我是否預見了這一切？沒有。即使每天都沉浸其中，我們有時醒來時仍需確認眼前發生的事是否真實。

大家心中最大的疑問是：供應鏈能否滿足需求？這是否可能？

需求如此龐大，整體市場在一段時間內將受制於供應。 目前，最顯著的瓶頸似乎在於晶片製造。作為設備供應商，我們配合客戶的計畫，迄今為止已能相當順利地跟上步伐。然而，我們意識到必須加速並擴展整個供應鏈與生產能力。若您與超大規模雲端服務供應商交談，我相信他們會證實，在未來兩、三年甚至五年內，他們都無法獲得足夠的晶片。

台積電最近因聲稱貴公司的最新設備成本過高而成為頭條新聞。您如何回應這一點？

EUV系統的售價確實會高於低NA系統，但使用這台設備生產特定先進製程層的每片晶圓成本將會更低。我們能將成本降低20%至30%。

[編者註：福凱在此提及的兩台設備均為EUV光刻機，採用相同的核心技術。NA代表數值孔徑，用以衡量設備將光線聚焦於晶片上的精細程度。 低NA EUV代表當前世代，而高NA EUV則是ASML的最新一代產品，雖能刻製更精細的圖案，但單機價格高達3.5億美元或以上。Fouquet的論點是，儘管初期成本較高，但新機台能以更經濟的方式製造晶片。]

我經常被問到，這項轉型會在本月、下個月，還是後下個月發生。 我的標準回答是：確切的時機並非關鍵，因為我們設計高數值孔徑技術是為了未來10到20年的需求。若您回顧2016或2017年的媒體報導，會發現類似的評論——當時低數值孔徑EUV被認為非常昂貴。我們都知道後續的發展。高數值孔徑技術也將重演同樣的模式。

一家名為 Substrate 的新創公司，在彼得·提爾（Peter Thiel）的支持下，聲稱能夠製造出具有競爭力的光刻機。您對此有何看法？

「立志開發」與「實際達成」之間存在天壤之別。光刻技術面臨諸多挑戰。生成影像僅是開端；隨後還必須以低成本、高速度及奈米級精度進行大規模量產。我常說，ASML之所以能開發出EUV光刻機，是因為80%的必要技術早已存在，是建立在數十年來累積的知識與產品基礎之上。 我們必須解決一個核心難題——產生極紫外光（EUV）——光是這一點就耗費了20年。從零開始更是巨大的挑戰。我見過許多宣稱，也看過幾張圖片。然而，我們早在30年前就捕捉到了第一張EUV影像，卻仍需再投入20年的密集研發，才能將其轉化為可行的量產系統。

那麼，關於 xLight 呢？這家部分由美國政府資助、並希望與您合作的雷射新創公司？

xLight 專注於我們 EUV 設備中的單一組件：光源。我們現有的光源在未來許多年內仍可進行擴展與升級。 xLight正在開發的是一種新光源，仍需經過建造與驗證。關鍵問題在於，相較於我們現有的技術，它是否能帶來性能或成本上的優勢。我認為這項結論尚待定論。我們正與他們合作，協助驗證其技術——我們將此視為自身責任的一部分。儘管如此，這仍是一段漫長的旅程。

此外，亦有報導指出，在中國的前 ASML 工程師已對貴公司的設備進行了逆向工程。

要進行逆向工程，首先必須實體接觸設備。中國境內沒有任何 EUV 設備——我們從未向該地運送過任何設備。 我們清楚掌握每台已出貨設備的去向；這些設備不是正在客戶處運作（我們會追蹤其狀態），就是已被拆解並退回給我們。所謂有我們的系統在中國境內的說法是不正確的。此外，由於我們的 EUV 技術從未出口至中國，因此我們在中國也沒有接受過 EUV 系統培訓的人員。

早在出口限制實施之初，我們便在公司內部建立了嚴格的隔離機制，將獲授權接觸EUV技術、文件及培訓的人員，與未獲授權者徹底區隔。我們在中國的團隊屬於後者。現有證據顯示，相關進展微乎其微，甚至根本沒有。由於這項技術被視為至關重要，因此有些人難以接受這個事實。

關於更廣泛的出口管制——黃仁勳昨晚在此主張，企業應在全球銷售，因為企業營收的增長將為母國帶來更多稅收。他還表示，關鍵在於將最先進的技術保留在本土。您同意嗎？

我認為他完全正確。他補充的一點——而我相信這正是Nvidia成功實踐的策略——是透過在銷售產品時維持世代差距，來保持技術領先地位。Nvidia銷售的產品比其最新產品落後幾代，這使其能在維持商業往來的同時，避免將強大的競爭優勢拱手讓給那些未獲售最新技術的國家。我們相信，同樣的原則也應適用於我們的產品。 如今，我們在出口管制允許的範圍內向中國供應工具，但這是一款我們早在2015年就已推出的產品。將詹森的理念應用於我們的實際情況，Nvidia 目前維持著約八代的技術差距。我們則正考慮將差距控制在兩到三代之間。這其中存在合理化的空間——在完全停止業務（從而放棄重大商機）與強烈激勵他人與你競爭之間，尋求適當的平衡點。

您如何評估目前與現任政府就這些議題的討論現狀？

雙方正進行建設性的對話，這至關重要。我相信對方確實理解商業需求，但挑戰仍在於如何在各方聲音與利益之間取得恰當的平衡。對話仍在持續，我們十分重視這一點。我曾多次造訪華盛頓。至少，對話正在進行中。然而，這確實是個極其複雜的問題。

您似乎並不特別擔心有人會找到捷徑來複製貴公司的技術。

人們渴望尖端技術，卻往往忽略了創造這些技術所需的付出。這需要多年的努力——不僅是ASML，還包括我們的供應商。這涉及不同群體的人們解決極其困難的問題，隨後由一家公司整合所有成果，並運用數十年的光刻專業知識來建立製造系統。這絕非易事。而且我相信，這段歷史與複雜性也是我們最強有力的保障。這恰恰反映了建立這項能力所需的巨大努力。