ASML CEO, 치열한 경쟁 속에서도 시장 입지에 자신감

인공지능을 이용할 때마다, 여러분은 작지만 중요한 방식으로, 기술 발전을 위해 매년 45억 유로를 투자하는 직원 4만 4천 명의 네덜란드 기업을 의지하고 있는 셈입니다.
네덜란드에 본사를 둔 ASML은 AI를 가능하게 하는 칩을 생산하는 장비를 제조합니다. 더 정확히 말하면, 이 회사는 최첨단 반도체를 구성하는 실리콘 웨이퍼에 미세한 패턴을 인쇄할 수 있는 전 세계 유일의 장비를 제작하는데, 이 공정은 극자외선 리소그래피(EUV)로 알려져 있습니다. 이 장비들은 스쿨버스 크기에 달하며, 조립에만 수개월이 소요되고 수백 개의 협력사가 참여한다. 모델에 따라 대당 2억 달러에서 4억 달러 이상이 드는 이 가격은 ASML의 최대 고객들조차 때때로 주저하게 만드는 수준이다.
이러한 독점적 지위 덕분에 ASML은 시가총액 5,300억 달러를 넘어 유럽에서 가장 가치 있는 기업으로 자리매김했다. 마이크로소프트, 메타, 아마존, 구글 등 미국 4대 기술 기업이 올해만 AI 인프라에 6,000억 달러 이상을 투자하기로 함에 따라 ASML 장비에 대한 수요는 급증했다. ASML은 향후 수년간 전 세계 반도체 공급이 수요를 따라가지 못할 것이라고 공개적으로 밝힌 바 있다.
이러한 치열한 수요는 ASML을 표적으로 만들기도 했다. 피터 틸의 제자가 설립한 샌프란시스코 스타트업 서브스트레이트(Substrate)는 경쟁 가능한 리소그래피 장비를 제작할 수 있다는 주장을 바탕으로 1억 달러 이상을 조달하고 10억 달러 이상의 기업 가치를 달성했다. 이와 별개로, 중국에 있는 전직 ASML 엔지니어들이 해당 기술을 부분적으로 역설계했다는 보도가 나오고 있는데, 이는 중대한 지정학적 함의를 지닌 사안이다.
ASML에서 10년 넘게 근무한 뒤 2024년 CEO로 취임한 크리스토프 푸케는 화요일 오전 밀켄 인스티튜트 글로벌 컨퍼런스에 참석하기 전, 베벌리힐스 호텔 옥상 테라스에서 본지 편집자와 만났다. 파란색 정장에 흰색 셔츠를 차려입은 그는 잠재적 경쟁사에 대한 논의가 오갈 때조차도 여유로운 모습이었다.
이 인터뷰는 분량과 명확성을 위해 약간 편집되었습니다.
TC: AI 붐을 예상하셨나요?
CF: 아니요, 전혀 예상하지 못했습니다. 우리는 부지런히 일했지만, 바로 이 물결이 닥칠 것이라는 예견은 없었습니다. 변화는 이론적 개념—사람들이 언젠가는 실현되리라 기대했던 것—에서, AI의 잠재력을 처음으로 설득력 있게 보여준 ChatGPT로 이어졌습니다. 오늘날 우리는 AI를 산업과 사회 모두에 영향을 미치는 차세대 주요 혁명으로 보고 있습니다. 제가 그 흐름을 예견했냐고요? 아니요. 매일 그 일에 몰두하고 있음에도, 때로는 아침에 눈을 뜨고 지금 펼쳐지는 일이 과연 현실인지 다시 확인해야 할 때가 있습니다.
모두가 가장 궁금해하는 점은 공급망이 수요를 따라잡을 수 있을지 여부입니다. 과연 가능할까요?
수요가 워낙 막대하여 당분간 전체 시장은 공급 부족에 시달릴 것입니다. 현재 가장 큰 병목 현상은 칩 제조 분야에서 나타나고 있습니다. 장비 공급업체로서 우리는 고객의 계획에 발맞추고 있으며, 지금까지는 그 속도를 꽤 잘 따라가고 있습니다. 하지만 우리는 전체 공급망과 생산 능력을 가속화하고 확장해야 할 필요성을 인식하고 있습니다. 하이퍼스케일 클라우드 제공업체들과 이야기를 나눠보시면, 향후 2년, 3년, 심지어 5년 동안에도 충분한 칩을 확보하지 못할 것이라는 점을 확인해 주실 거라 생각합니다.
TSMC가 최근 귀사의 최신 장비가 너무 비싸다고 언급하며 화제가 되었습니다. 이에 대해 어떻게 생각하십니까?
EUV 시스템은 저 NA 시스템보다 가격이 비싸겠지만, 이 장비를 사용하여 특정 첨단 레이어를 생산할 때 웨이퍼당 비용은 더 낮아집니다. 비용을 20%에서 30%까지 절감할 수 있습니다.
[편집자 주: 푸케가 여기서 언급한 두 장비 모두 EUV 장비로, 동일한 핵심 기술을 공유합니다. NA는 수차(Numerical Aperture)를 의미하며, 장비가 칩에 빛을 얼마나 정밀하게 집중시킬 수 있는지를 나타냅니다. 저 NA EUV는 현재 세대를 대표하며, 고 NA EUV는 ASML의 최신 세대로, 더 미세한 패턴을 인쇄할 수 있지만 대당 가격이 3억 5천만 달러 이상입니다. 푸케의 주장은 초기 비용은 더 높지만, 새로운 장비가 칩을 더 저렴하게 생산할 수 있다는 것입니다.]
이 전환이 이번 달, 다음 달, 아니면 그다음 달에 이루어질지 자주 묻습니다. 제 일반적인 답변은 정확한 시기가 그리 중요하지 않다는 것입니다. 왜냐하면 우리는 향후 10~20년을 내다보고 고수차(high-NA) 기술을 설계했기 때문입니다. 2016년이나 2017년의 언론 보도를 살펴보면 비슷한 논평을 발견할 수 있을 것입니다. 당시 저수차(low-NA) EUV는 매우 비싸다고 여겨졌습니다. 그 후 어떤 일이 벌어졌는지는 우리 모두 알고 있습니다. 고수차(high-NA) EUV에서도 똑같은 패턴이 반복될 것입니다.
피터 틸이 투자한 '서브스트레이트(Substrate)'라는 스타트업이 경쟁 가능한 리소그래피 장비를 제작할 수 있다고 주장합니다. 이에 대해 어떻게 생각하십니까?
만들겠다는 포부와 실제로 달성하는 것 사이에는 엄청난 차이가 있습니다. 리소그래피에는 수많은 난관이 존재합니다. 이미지를 생성하는 것은 시작에 불과하며, 그 이미지를 저비용, 고속, 나노미터 수준의 정밀도로 대량 생산해야 합니다. 저는 종종 ASML이 EUV 장비를 개발할 수 있었던 이유는 필요한 기술의 80%가 이미 존재했고, 수십 년에 걸쳐 축적된 지식과 기존 제품들을 기반으로 했기 때문이라고 말하곤 합니다. 우리는 EUV 광원을 생성하는 단 하나의 핵심 문제를 해결해야 했는데, 그것만으로도 20년이 걸렸습니다. 제로에서 시작하는 것은 엄청난 도전입니다. 저는 수많은 주장과 몇 장의 이미지를 보아왔습니다. 하지만 우리는 30년 전에 첫 EUV 이미지를 포착했음에도 불구하고, 이를 실용적인 제조 시스템으로 전환하는 데 또 다른 20년의 집중적인 노력이 필요했습니다.
미국 정부의 일부 자금을 지원받아 귀사와의 협력을 모색하고 있는 레이저 스타트업 'xLight'에 대해서는 어떻게 생각하십니까?
xLight는 우리 EUV 장비의 단일 구성 요소인 광원에 집중하고 있습니다. 우리의 기존 광원은 앞으로 수년 동안 확장 및 규모 확대가 가능합니다. xLight가 개발 중인 것은 아직 제작과 검증이 필요한 새로운 광원입니다. 핵심은 이것이 당사의 기존 기술에 비해 성능이나 비용 면에서 이점을 제공하는지 여부입니다. 저는 그 결론이 아직 나오지 않았다고 봅니다. 우리는 그들의 기술을 입증하는 데 도움을 주기 위해 협력하고 있으며, 이를 우리의 책임 중 하나로 여깁니다. 그럼에도 불구하고, 아직 갈 길이 멉니다.
또한 중국에 있는 전직 ASML 엔지니어들이 귀사의 장비를 리버스 엔지니어링했다는 보도도 있습니다.
무언가를 리버스 엔지니어링하려면 우선 장비에 물리적으로 접근할 수 있어야 합니다. 중국에는 EUV 장비가 없습니다. 우리는 그곳으로 단 한 대의 장비도 출하한 적이 없습니다. 저희는 출하한 모든 장비의 위치를 정확히 파악하고 있습니다. 해당 장비들은 저희가 추적 중인 고객사 현장에서 가동 중이거나, 이미 해체되어 저희에게 반환된 상태입니다. 저희 시스템 중 하나가 중국에 있다는 주장은 사실이 아닙니다. 게다가 EUV 기술이 중국으로 수출된 적이 없기 때문에, 중국 내에는 EUV 시스템 교육을 받은 저희 직원도 없습니다.
수출 제한 조치가 시행되자마자, 우리는 EUV 기술, 문서 및 교육에 접근 권한이 있는 인력과 그렇지 않은 인력 간에 회사 내부에서 완벽한 구분을 마련했습니다. 중국에 있는 우리 팀은 그 구분선에서 후자에 속합니다. 증거에 따르면 진전이 있었다고 해도 극히 미미한 수준입니다. 이 기술에 대한 접근이 매우 중요하게 여겨지기 때문에 일부 사람들은 이를 받아들이기 어려워합니다.
수출 통제를 더 넓은 관점에서 보자면—젠슨 황(Jensen Huang)은 어제 밤 이곳에서 기업들이 전 세계적으로 제품을 판매해야 하며, 기업 매출 증가는 모국의 세수 증대로 이어진다고 주장했습니다. 그는 또한 핵심은 최첨단 기술을 자국 내에 가까이 두는 것이라고 말했습니다. 이에 동의하십니까?
저는 그가 전적으로 옳다고 생각합니다. 그가 덧붙인 점—그리고 이것이 바로 엔비디아가 성공적으로 실행해 온 방식이라고 믿습니다—은 판매하는 제품에 세대 차이를 유지함으로써 기술적 우위를 지킬 수 있다는 것입니다. 엔비디아는 최신 제품보다 몇 세대 뒤처진 제품을 판매함으로써, 지속적인 거래를 유지하면서도 최신 기술이 판매되지 않는 국가들에 강력한 경쟁 우위를 넘겨주지 않는 균형을 맞추고 있습니다. 저희는 동일한 원칙이 저희 제품에도 적용되어야 한다고 믿습니다. 현재 우리는 수출 통제 규정에 따라 중국에 도구를 공급하고 있지만, 이는 2015년에 처음 출시된 제품입니다. 젠슨의 철학을 우리 상황에 적용해 보면, 엔비디아는 대략 8세대 정도의 격차를 두고 운영합니다. 우리는 2~3세대 정도의 격차를 고려하고 있습니다. 사업을 완전히 중단하여 상당한 기회를 포기하는 것과, 타사가 우리와 경쟁하도록 강력히 유도하는 것 사이에서 적절한 균형을 찾는 합리적인 조정이 가능합니다.
이러한 사안들에 대해 현 행정부와의 논의 현황을 어떻게 평가하십니까?
건설적인 대화가 이루어지고 있으며, 이는 매우 중요합니다. 비즈니스 요구 사항에 대한 진정한 이해가 있다고 믿지만, 관련된 다양한 목소리와 이해관계 사이에서 적절한 균형을 찾는 데는 여전히 어려움이 있습니다. 대화는 계속되고 있으며, 우리는 이를 소중히 여깁니다. 저는 워싱턴을 여러 번 방문했습니다. 적어도 대화는 진행되고 있습니다. 하지만 이는 매우 복잡한 문제입니다.
누군가 귀사의 기술을 복제할 지름길을 찾을까 봐 크게 우려하지는 않는 것 같습니다.
사람들은 최첨단 기술을 원하지만, 그 기술을 창조하는 데 무엇이 필요했는지는 종종 간과합니다. 이는 ASML뿐만 아니라 협력사들과 함께 수년간의 노력이 필요했습니다. 매우 어려운 문제를 해결하기 위해 다양한 그룹의 사람들이 참여했고, 그 후 한 회사가 수십 년에 걸친 리소그래피 전문성을 활용해 모든 것을 통합하여 제조 시스템을 구축했습니다. 이는 결코 간단한 일이 아닙니다. 그리고 저는 그 역사와 복잡성이야말로 우리의 가장 강력한 방어 수단이라고 믿습니다. 이는 단순히 이러한 역량을 구축하는 데 필요한 막대한 노력을 반영하는 것입니다.
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이러한 독점적 지위 덕분에 ASML은 시가총액 5,300억 달러를 넘어 유럽에서 가장 가치 있는 기업으로 자리매김했다. 마이크로소프트, 메타, 아마존, 구글 등 미국 4대 기술 기업이 올해만 AI 인프라에 6,000억 달러 이상을 투자하기로 함에 따라 ASML 장비에 대한 수요는 급증했다. ASML은 향후 수년간 전 세계 반도체 공급이 수요를 따라가지 못할 것이라고 공개적으로 밝힌 바 있다.
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TSMC가 최근 귀사의 최신 장비가 너무 비싸다고 언급하며 화제가 되었습니다. 이에 대해 어떻게 생각하십니까?
EUV 시스템은 저 NA 시스템보다 가격이 비싸겠지만, 이 장비를 사용하여 특정 첨단 레이어를 생산할 때 웨이퍼당 비용은 더 낮아집니다. 비용을 20%에서 30%까지 절감할 수 있습니다.
[편집자 주: 푸케가 여기서 언급한 두 장비 모두 EUV 장비로, 동일한 핵심 기술을 공유합니다. NA는 수차(Numerical Aperture)를 의미하며, 장비가 칩에 빛을 얼마나 정밀하게 집중시킬 수 있는지를 나타냅니다. 저 NA EUV는 현재 세대를 대표하며, 고 NA EUV는 ASML의 최신 세대로, 더 미세한 패턴을 인쇄할 수 있지만 대당 가격이 3억 5천만 달러 이상입니다. 푸케의 주장은 초기 비용은 더 높지만, 새로운 장비가 칩을 더 저렴하게 생산할 수 있다는 것입니다.]
이 전환이 이번 달, 다음 달, 아니면 그다음 달에 이루어질지 자주 묻습니다. 제 일반적인 답변은 정확한 시기가 그리 중요하지 않다는 것입니다. 왜냐하면 우리는 향후 10~20년을 내다보고 고수차(high-NA) 기술을 설계했기 때문입니다. 2016년이나 2017년의 언론 보도를 살펴보면 비슷한 논평을 발견할 수 있을 것입니다. 당시 저수차(low-NA) EUV는 매우 비싸다고 여겨졌습니다. 그 후 어떤 일이 벌어졌는지는 우리 모두 알고 있습니다. 고수차(high-NA) EUV에서도 똑같은 패턴이 반복될 것입니다.
피터 틸이 투자한 '서브스트레이트(Substrate)'라는 스타트업이 경쟁 가능한 리소그래피 장비를 제작할 수 있다고 주장합니다. 이에 대해 어떻게 생각하십니까?
만들겠다는 포부와 실제로 달성하는 것 사이에는 엄청난 차이가 있습니다. 리소그래피에는 수많은 난관이 존재합니다. 이미지를 생성하는 것은 시작에 불과하며, 그 이미지를 저비용, 고속, 나노미터 수준의 정밀도로 대량 생산해야 합니다. 저는 종종 ASML이 EUV 장비를 개발할 수 있었던 이유는 필요한 기술의 80%가 이미 존재했고, 수십 년에 걸쳐 축적된 지식과 기존 제품들을 기반으로 했기 때문이라고 말하곤 합니다. 우리는 EUV 광원을 생성하는 단 하나의 핵심 문제를 해결해야 했는데, 그것만으로도 20년이 걸렸습니다. 제로에서 시작하는 것은 엄청난 도전입니다. 저는 수많은 주장과 몇 장의 이미지를 보아왔습니다. 하지만 우리는 30년 전에 첫 EUV 이미지를 포착했음에도 불구하고, 이를 실용적인 제조 시스템으로 전환하는 데 또 다른 20년의 집중적인 노력이 필요했습니다.
미국 정부의 일부 자금을 지원받아 귀사와의 협력을 모색하고 있는 레이저 스타트업 'xLight'에 대해서는 어떻게 생각하십니까?
xLight는 우리 EUV 장비의 단일 구성 요소인 광원에 집중하고 있습니다. 우리의 기존 광원은 앞으로 수년 동안 확장 및 규모 확대가 가능합니다. xLight가 개발 중인 것은 아직 제작과 검증이 필요한 새로운 광원입니다. 핵심은 이것이 당사의 기존 기술에 비해 성능이나 비용 면에서 이점을 제공하는지 여부입니다. 저는 그 결론이 아직 나오지 않았다고 봅니다. 우리는 그들의 기술을 입증하는 데 도움을 주기 위해 협력하고 있으며, 이를 우리의 책임 중 하나로 여깁니다. 그럼에도 불구하고, 아직 갈 길이 멉니다.
또한 중국에 있는 전직 ASML 엔지니어들이 귀사의 장비를 리버스 엔지니어링했다는 보도도 있습니다.
무언가를 리버스 엔지니어링하려면 우선 장비에 물리적으로 접근할 수 있어야 합니다. 중국에는 EUV 장비가 없습니다. 우리는 그곳으로 단 한 대의 장비도 출하한 적이 없습니다. 저희는 출하한 모든 장비의 위치를 정확히 파악하고 있습니다. 해당 장비들은 저희가 추적 중인 고객사 현장에서 가동 중이거나, 이미 해체되어 저희에게 반환된 상태입니다. 저희 시스템 중 하나가 중국에 있다는 주장은 사실이 아닙니다. 게다가 EUV 기술이 중국으로 수출된 적이 없기 때문에, 중국 내에는 EUV 시스템 교육을 받은 저희 직원도 없습니다.
수출 제한 조치가 시행되자마자, 우리는 EUV 기술, 문서 및 교육에 접근 권한이 있는 인력과 그렇지 않은 인력 간에 회사 내부에서 완벽한 구분을 마련했습니다. 중국에 있는 우리 팀은 그 구분선에서 후자에 속합니다. 증거에 따르면 진전이 있었다고 해도 극히 미미한 수준입니다. 이 기술에 대한 접근이 매우 중요하게 여겨지기 때문에 일부 사람들은 이를 받아들이기 어려워합니다.
수출 통제를 더 넓은 관점에서 보자면—젠슨 황(Jensen Huang)은 어제 밤 이곳에서 기업들이 전 세계적으로 제품을 판매해야 하며, 기업 매출 증가는 모국의 세수 증대로 이어진다고 주장했습니다. 그는 또한 핵심은 최첨단 기술을 자국 내에 가까이 두는 것이라고 말했습니다. 이에 동의하십니까?
저는 그가 전적으로 옳다고 생각합니다. 그가 덧붙인 점—그리고 이것이 바로 엔비디아가 성공적으로 실행해 온 방식이라고 믿습니다—은 판매하는 제품에 세대 차이를 유지함으로써 기술적 우위를 지킬 수 있다는 것입니다. 엔비디아는 최신 제품보다 몇 세대 뒤처진 제품을 판매함으로써, 지속적인 거래를 유지하면서도 최신 기술이 판매되지 않는 국가들에 강력한 경쟁 우위를 넘겨주지 않는 균형을 맞추고 있습니다. 저희는 동일한 원칙이 저희 제품에도 적용되어야 한다고 믿습니다. 현재 우리는 수출 통제 규정에 따라 중국에 도구를 공급하고 있지만, 이는 2015년에 처음 출시된 제품입니다. 젠슨의 철학을 우리 상황에 적용해 보면, 엔비디아는 대략 8세대 정도의 격차를 두고 운영합니다. 우리는 2~3세대 정도의 격차를 고려하고 있습니다. 사업을 완전히 중단하여 상당한 기회를 포기하는 것과, 타사가 우리와 경쟁하도록 강력히 유도하는 것 사이에서 적절한 균형을 찾는 합리적인 조정이 가능합니다.
이러한 사안들에 대해 현 행정부와의 논의 현황을 어떻게 평가하십니까?
건설적인 대화가 이루어지고 있으며, 이는 매우 중요합니다. 비즈니스 요구 사항에 대한 진정한 이해가 있다고 믿지만, 관련된 다양한 목소리와 이해관계 사이에서 적절한 균형을 찾는 데는 여전히 어려움이 있습니다. 대화는 계속되고 있으며, 우리는 이를 소중히 여깁니다. 저는 워싱턴을 여러 번 방문했습니다. 적어도 대화는 진행되고 있습니다. 하지만 이는 매우 복잡한 문제입니다.
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