집ASML의 고NA EUV 장비, 첨단 AI 칩 개발의 길을 열다
내일의 AI 칩을 가능하게 할 기계가 대량 생산 승인을 받아 산업의 다음 도약을 위한 공식적인 카운트다운이 시작됐다. 상업용 극자외선 리소그래피 시스템 분야에서 세계적 독점권을 가진 네덜란드 기업 ASML은 이번 주 자사의 고NA EUV 장비가 기술적 경이로움에서 진정한 생산 준비 장비로 전환됐다고 확인했다.
ASML의 최고기술책임자(CTO) 마르코 피터스는 산호세에서 열리는 기술 컨퍼런스 전 로이터 통신과의 단독 인터뷰에서 이같이 발표했다.
현세대 EUV 장비는 첨단 AI 칩 제조 능력의 한계에 도달하고 있다. 이는 대규모 언어 모델과 AI 가속기를 구동하는 반도체가 물리적 장벽에 직면했음을 의미한다. 고NA EUV 장비는 이 장벽을 깨기 위해 설계되어, 칩 제조사들이 더 적은 공정 단계로 더 정밀하고 고밀도의 회로 패턴을 인쇄할 수 있게 한다. 이는 AI 작업 부하를 위한 더 강력하고 에너지 효율적인 칩을 직접 가능케 한다.
피터스는 로이터 통신과의 인터뷰에서 "완료된 학습 주기의 양을 고려할 때 우리는 중대한 전환점에 도달했다고 믿는다"며, 시스템이 현재까지 거친 광범위한 고객 테스트를 언급했다.
중요한 수치
ASML은 공개 예정인 세 가지 핵심 지표를 근거로 준비 완료를 주장한다. 고NA EUV 장비는 현재까지 50만 개의 실리콘 웨이퍼를 처리했으며, 약 80%의 가동률을 달성했다(연말까지 90% 목표). 또한 단일 고NA 노광으로 기존 다단계 패터닝 공정을 대체할 수 있는 이미징 정밀도를 입증했다.
피터스는 이 수치들이 종합적으로 제조업체들이 검증 절차를 시작할 준비가 되었음을 시사한다고 밝혔다. 투자 규모는 상당하다. 단위당 약 4억 달러(이전 EUV 세대 비용의 두 배)로, 산업 역사상 가장 비싼 자본 장비 중 하나다.
TSMC와 인텔이 초기 도입 기업으로 확인됐다.
2~3년의 준비 기간
피터스는 기술적 준비와 완전한 제조 통합을 구분하는 데 신중을 기했다. 이 같은 이정표에도 불구하고, 반도체 제조사들이 검증과 공정 개발을 완료하는 데는 여전히 2~3년이 소요될 것으로 예상된다.
그는 "반도체 제조사들은 이 장비들을 검증하는 데 필요한 모든 전문성을 보유하고 있다"고 강조하며, 신중한 일정 속에서도 업계의 진전 능력에 대한 확신을 표명했다.
차세대 반도체 성능 향상은 아직 손에 닿지 않았지만 시야에 들어왔다. ASML이 출발 신호를 울리면서, 고수차 EUV를 주류 생산에 통합하기 위한 경쟁이 이제 공식적으로 시작되었다.
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![EricYoung]()
ASML這台機器終於量產了，看來AI晶片的競爭又要進入新階段。不過全球就他們一家能做EUV，這種壟斷真的沒問題嗎？未來會不會所有尖端科技都卡在荷蘭這間公司手上啊？有點擔心供應鏈的穩定性。
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