Шанхайская лаборатория искусственного интеллекта (Shanghai AI Lab) совместно с партнерами использовала крупномасштабную модель «Шу Шэнь» (Shu Shen) и автоматизированную платформу для научно-исследовательских и опытно-конструкторских работ (НИОКР) с целью решения задачи стабилизации производства высококачественной смолы для фоторезиста на основе KrF — ключевого материала для производства микросхем. Эта система с замкнутым циклом, основанная на искусственном интеллекте, переводит процесс НИОКР с эмпирического подхода на подход, основанный на данных, что позволяет значительно повысить чистоту и стабильность качества материала, а также сократить сроки разработки. Данный прорыв снижает зависимость от иностранных поставщиков и способствует укреплению независимости китайской цепочки поставок полупроводников; в настоящее время технология проходит этап проверки у заказчиков.